旭化成开发出面向先进半导体封装的“感光性聚酰亚胺薄膜”

近日，日本材料巨头旭化成株式会社发布了一则重要消息：为应对面向AI半导体的先进封装不断升级的技术需求，公司成功开发了一款全新的“感光性聚酰亚胺薄膜”。目前，该产品已进入关键的客户评估阶段，正朝着早日实现商业化上市的目标迈进。

新开发的感光性聚酰亚胺薄膜

一、技术革新的背后驱动力

在旭化成的战略版图中，电子业务被定位为引领集团利润增长的“重点成长”引擎。其中，以感光性聚酰亚胺“PIMEL™”和感光性干膜“SUNFORT™”为代表的电子材料业务，正是这一引擎的核心部件。此次新品的推出，并非凭空而来，而是基于深厚的技术积累，旨在满足先进半导体封装领域日益严苛的材料需求。

这股需求从何而来？答案指向了蓬勃发展的AI数据中心。随着AI算力竞赛白热化，先进半导体封装正朝着更大面积、更高集成度的方向狂奔。具体表现为多芯片集成、中介层（Interposer）大型化等趋势。与此同时，制造工艺也在经历深刻变革：从晶圆级向面板级（Panel Level）的转变、3D结构化堆叠的加速，以及封装基板布线不断微细化与多层化。这一切，都对封装材料的性能提出了前所未有的高要求。

二、新产品的核心优势与应用潜力

那么，这款新开发的感光性聚酰亚胺薄膜究竟有何过人之处？简单来说，它是一次成功的“技术融合”。产品不仅继承了已有市场实绩的“PIMEL™”技术精髓，更在实现薄膜化的关键过程中，融入了“SUNFORT™”系列所积累的尖端材料与生产工艺。要知道，“SUNFORT™”在形成微细线路和3D封装不可或缺的铜柱（Copper Pillar）方面，早已是久经沙场的老将。

凭借这些融合优势，新产品展现出广泛的应用潜力。它不仅能够用于半导体封装中的重新布线层（RDL），同样有望成为封装基板高性能绝缘层的理想选择。

在制造工艺上，新产品采用层压工艺，能够在大尺寸面板上轻松形成均匀的绝缘树脂层。这一特性直接带来了两大好处：一是显著提升半导体封装的制造效率；二是其优异的膜厚均匀性，能够轻松应对绝缘层数增加带来的挑战。对于未来预计将持续扩张的面板级封装（PLP）市场而言，这款材料无疑是提升生产良率和效率的一把利器。

目前，面对先进半导体封装大型化的趋势，业界正在同步探索液态工艺和薄膜工艺两条路径。旭化成表示，将继续致力于开发满足客户多样化需求的材料，积极开拓市场。

协同解决方案：构建完整工艺链条

更值得关注的是，旭化成的布局并未止步于单一材料。公司正在积极推进一套组合拳式的解决方案。例如，将这款新薄膜与旗下可形成1.0μm超细线宽电路的高性能感光性干膜“SUNFORT™ TA系列”相结合，从而实现微细线路与绝缘树脂层全部通过高效的薄膜工艺完成。同时，公司也在探索将其与能够形成3D封装所需高深宽比铜柱的“SUNFORT™ CX系列”干膜进行搭配，为客户提供一站式的先进封装材料解决方案。

感光性聚酰亚胺薄膜与“SUNFORT™ TA系列”的重新布线层截面图

对此，旭化成常务执行官兼材料领域电子材料市场部门负责人植竹伸子评论道：“AI半导体性能的飞跃，正驱动着先进封装技术向更大面积、更高精细度演进。旭化成融合了长期积累的‘PIMEL™’与‘SUNFORT™’技术，旨在推出适应大尺寸面板制造的新型薄膜工艺方案。我们期待这款新产品能助力客户提升生产良率和效率，并为先进半导体封装的持续演进提供坚实支持。”

※1 Panel Level Packaging（PLP）：一种使用比传统晶圆尺寸更大的面板来制造半导体封装的技术，有助于提升生产效率和降低成本。

※2 指旭化成此前开发的面向先进半导体封装的全新感光干膜“SUNFORT™”。