ASML CEO：这是存亡问题！越禁光刻机，国产替代跑得越快！

近日，ASML首席执行官富凯在比利时安特卫普的一场科技活动间隙，向媒体传递了一个清晰而务实的信号：针对芯片制造设备的对华出口管制，需要一套更统一、更稳定的规则。

他直言不讳地指出，ASML目前获准向中国出售的深紫外（DUV）光刻机，其技术基础仍停留在2015年，这已经是八代之前的工艺了。在此基础上若进一步收紧限制，结果可能适得其反——只会倒逼中国加快自主研发与替代的步伐，最终让市场本身来“反噬”限制者。

富凯用一个生动的比喻道出了其中的关键：“如果把你放到沙漠里，告诉你再也没有食物来源，你要多久才能自己开垦出菜园？这是存亡问题。”

美国推动更严管制，荷兰反对

这场关于规则的博弈，背景是美国国会于今年4月提出的《硬件技术多边协调法案》（MATCH法案）。该法案的核心诉求，是要求荷兰、日本等盟友在出口管制上与美国看齐，以阻止中国获取先进的芯片制造设备。

具体而言，法案意图在现有对极紫外（EUV）光刻机全面禁售的基础上，进一步将浸润式DUV光刻机等成熟制程设备也纳入全面限制清单。据路透社此前报道，这项法案的背后，有美国最大存储芯片厂商美光科技的推动。

然而，荷兰政府对此已表达了明确的反对立场，认为该法案涉嫌“域外管辖”，是对他国主权的干涉。

市场数据与中国应对

市场数据的变化，直观地反映了管制带来的影响。ASML在今年1月曾预计，到2026年，其对华销售额占比将从去年的33%下降至20%。中国海关总署的数据则显示，2026年第一季度，中国自荷兰进口的光刻机同比大幅下降了24.3%。

面对外部封锁，中国半导体产业的自主突围正在加速。一个标志性的事件是，在今年3月的全国两会期间，王阳元（中芯国际创始人之一）、赵晋荣（北方华创董事长）等九位行业领军人物，在《科技导报》上联名发表文章。他们共同呼吁，在“十五五”（2026-2030年）规划期间，应举全国之力打造“中国版ASML”，旨在突破技术封锁，攻克EUV光刻机等核心设备的瓶颈。

理想自研SoC IP 揭秘

与此同时，产业层面的具体行动也在同步展开。例如，关于国产芯片设计核心能力的探讨与实践从未停止，相关技术研讨会持续聚焦于EDA工具的低功耗设计与静态验证等关键技术领域，为整体产业链的自主化提供底层支撑。