三星第 9 代 V-NAND 金属布线量产工艺被曝首次使用钼技术
本站7月3日消息,根据韩媒TheElec报道,三星在其第9代V-NAND的“金属布线”(metalwiring)中首次尝试使用钼(Mo)。本站注:半导体制造过程中八大工艺分别为:晶圆制造氧化光刻刻蚀沉积金属布线测试封装金属布线工艺主要是使用不同的方式连接数十亿个电子元器件,形成不同的半导体(CPU、GPU等),可以说是“为半导体注入了生命”。消息人士称三星公司已从LamResearch公司引进了五台Mo沉积机,此外还计划明年再引进20台设备。除三星电子外,SK海力士、美光和Kioxia等公司也在考虑使用钼
本站 7 月 3 日消息,根据韩媒 The Elec 报道,三星在其第 9 代 V-NAND 的“金属布线”(metal wiring)中首次尝试使用钼(Mo)。

- 晶圆制造
- 氧化
- 光刻
- 刻蚀
- 沉积
- 金属布线
- 测试
- 封装
金属布线工艺主要是使用不同的方式连接数十亿个电子元器件,形成不同的半导体(CPU、GPU 等),可以说是“为半导体注入了生命”。
消息人士称三星公司已从 Lam Research 公司引进了五台 Mo 沉积机,此外还计划明年再引进 20 台设备。
除三星电子外,SK 海力士、美光和 Kioxia 等公司也在考虑使用钼。和现有 NAND 工艺中所使用的六氟化钨(WF6)不同,钼前驱体(molybdenum precursor)是固态,必须在 600℃ 的高温下才能升华直接转化为气态,而这个过程需要单独的沉积设备。
三星今年 5 月报道,已经启动了首批第九代 V-NAND 闪存量产,位密度比第八代 V-NAND 提高了约 50%。
第九代 V-NAND 配备了下一代 NAND 闪存接口“Toggle 5.1”,可将数据输入 / 输出速度提高 33%,最高可达每秒 3.2 千兆位(Gbps)。除了这个新接口,三星还计划通过扩大对 PCIe 5.0 的支持来巩固其在高性能固态硬盘市场的地位。
Windows 10 是一款微软推出的经典操作系统,拥有硬件兼容性与多任务处理能力。它更偏向把系统状态查看和常用调节动作放在一起,适合需要持续观察和微调设备状态的场景。
极度公式是一款跨平台专业LaTeX公式识别编辑软件,支持OCR公式识别和多平台编辑。和使用说明,避免使用,享受完整功能与稳定支持。做扫描整理、文字提取和表格转换时,它能把识别后的处理步骤接得更顺,资料录入这类场景会省下不少时间。
















