联华电子推出 14nm eHV FinFET 技术平台 面向手机 DDIC 等应用
联华电子推出14纳米嵌入式高压FinFET工艺平台，用于显示驱动芯片。相比现有22纳米技术，新平台可降低功耗40%，节省芯片面积35%。它采用三维晶体管结构，优化电气性能，支持高分辨率与高刷新率显示需求，是FinFET技术首次应用于该领域的重要进展。
近日，联华电子（联电，UMC）公布了一项针对显示驱动芯片的新技术：14纳米嵌入式高压（14nm eHV）FinFET工艺平台。根据官方信息，与当前已量产的最先进eHV制程（基于22纳米节点）相比，这项新技术有望实现功耗降低40%，芯片面积节省35%的显著提升。
联电指出，其现有的22纳米eHV技术已经能够支持更小型、更轻薄的显示驱动模块设计，从而有助于延长移动设备的电池续航，并满足高端乃至折叠屏OLED智能手机的显示需求。而新推出的14纳米eHV平台，则是在此基础上的又一次重要跨越。
具体到数字电路部分，14纳米eHV不仅采用了三维的FinFET晶体管结构，还通过对I/O元件的优化设计和更高的驱动速度，进一步提升了电气性能与信号完整性。这确保了技术能够支持高分辨率显示应用所必需的高刷新率。同时，优化后的中压组件具备更小的线宽间距和更宽的工作电压范围，为驱动电路的设计提供了更大的灵活性。
联电技术研发副总经理徐世杰对此评论道：
显示应用正变得无处不在，市场对更高画质、更快速度、更低功耗的追求将持续下去。联电很荣幸能在显示驱动IC领域保持技术领先。此次14纳米eHV平台的推出，标志着FinFET技术首次被引入显示驱动领域，是一个重要的里程碑。随着客户产品功能的不断升级，联电将继续凭借领先的制程技术，助力客户将创新构想转化为可大规模量产的产品。
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