ASML High NA EUV光刻机首批组件抵达奥尔巴尼纳米技术综合体
ASMLHighNAEUV光刻机首批组件已抵达美国纽约州奥尔巴尼纳米技术综合体，该设备是半导体制造领域的关键技术，标志着美国在下一代芯片制造上全力冲刺。运输过程隆重，NYCreates总裁表示将改变美国研发活动。
据美国纽约州州长办公室当地时间今日向路透社透露的信息，ASML的High NA EUV光刻机首批组件已经抵达该州境内的奥尔巴尼纳米技术综合体（Albany NanoTech Complex）。这可不是什么小打小闹——这台设备可是半导体制造领域的“超级武器”，它的到来意味着美国正在下一代芯片制造技术上全力冲刺。
根据综合体监管方NY Creates（纽约研究、经济促进、技术、工程和科学中心）在社交媒体上晒出的照片，这一关键设备已于当地时间昨日踏上了前往综合体的最后一程。从照片上看，运输过程相当隆重，毕竟这玩意儿价值连城，运输难度也堪比搬动一座精密仪器大厦。
▲ 图源：NY Creates
NY Creates总裁兼首席执行官Da ve Anderson表示，奥尔巴尼纳米技术综合体是北美唯一的同类设施，其规模和重点与比利时imec类似。他强调，这台High NA EUV光刻机“确实会改变我们未来的业务范围以及美国的研发活动”，“我们实际上正处于下一代技术发展的中心”。
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