拉普拉斯:半导体沉积设备目前在下游企业现场进行机台验证,尚未取得正式销售订单
拉普拉斯半导体沉积设备已完成α机验证,目前进入β机阶段,在下游客户现场进行机台验证,尚未取得正式销售订单。该设备兼容8至12英寸晶圆,支持多种金属电镀,用于先进封装的RDL、微凸块、TSV等环节。
拉普拉斯在7月24日披露的投资者关系活动记录中,透露了一项关键信息。
这次把目光聚焦在了“半导体沉积设备”这个在研项目上。披露的信息显示,这个项目对应的产品是半导体先进封装所需的电化学沉积设备,也就是我们常说的ECD设备,俗称电镀设备。这台设备有点意思,它兼容8到12英寸的晶圆,并且支持铜、镍、金、锡银、镍铁等多种金属的电镀。这意味着,它在半导体封装工艺里,像是RDL、微凸块、TSV这些关键环节,都能派上用场。
需要关注的是项目的进展节奏。就在今年上半年,该项目已经完成了α机验证,也就是公司内部的验证原型机阶段。现在,它已经进入了β机验证阶段——这一步是量产验证机,会被放到下游客户的现场进行实地验证。不过,目前还没有正式拿到销售订单。这算是从实验室走向量产的关键一步,接下来就看下游验证的反馈了。
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