美商务部对ASML高端光刻机或流入中国表示关切
美国商务部担忧ASML的极紫外光刻机可能通过第三国转口等方式绕过出口管制流入中国。ASML反驳称其产量极为有限且需持续专业维护才能正常运行,并强调从未向中国出售过任何EUV设备或相关部件。
这事儿挺有意思。路透社6月18日的报道,把美荷之间围绕光刻机设备出口的一番“暗战”摆到了台前。美国商务部长霍华德·勒特尼克最近跟荷兰光刻机巨头ASML的高层见了面,聊的内容相当直接——美方正怀疑,一台由ASML生产的顶级芯片制造设备,可能已经绕过了美国的出口管制,流到了中国手里。消息最早是彭博社捅出来的。

报道里说得很清楚,勒特尼克是在跟ASML高层会谈时,直接提出了这个担忧。不过,ASML这边也没含糊,当场就给反驳了。他们的理由很“硬”——公司强调,用于生产超微细芯片电路的极紫外(EUV)光刻系统,产量本身就极其有限,而且,这些设备在整个生命周期里,都得靠ASML的工程师持续维护才能运转。换句话说,设备的流向高度可控,很难神不知鬼不觉地“流失”。
那么,ASML的底气从哪来?得看看这台设备的分量。报道中描述,ASML最先进的EUV系统,体积堪比一辆校车,重量约180吨。这玩意儿在高端芯片制造产业链里,绝对是核心中的核心,也是当前被视作“卡脖子”的关键装备。一位ASML发言人被彭博社援引时,话也说得很绝对:“ASML从未向中国出售过任何一台EUV光刻机,也从未向中国出口过任何专门为EUV设备设计的部件、模块或设备。”
话说回来,针对这篇报道的具体说法,美国商务部、ASML以及白宫在路透社的常规工作时间之外联系时,都还没有立刻作出回应。值得一提的是,路透社自己,去年12月就曾报道过另一件事:中国的一个科研团队,在多名ASML前工程师的参与下,已经搞出了一套EUV原型机。当时那件事,就被业内形容为中国在高端芯片制造领域的一次“曼哈顿计划”式的攻关。
两件事放在一起看,局势显然没那么简单。
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