美商务部对ASML高端光刻机或流入中国表示关切

这事儿挺有意思。路透社6月18日的报道，把美荷之间围绕光刻机设备出口的一番“暗战”摆到了台前。美国商务部长霍华德·勒特尼克最近跟荷兰光刻机巨头ASML的高层见了面，聊的内容相当直接——美方正怀疑，一台由ASML生产的顶级芯片制造设备，可能已经绕过了美国的出口管制，流到了中国手里。消息最早是彭博社捅出来的。

报道里说得很清楚，勒特尼克是在跟ASML高层会谈时，直接提出了这个担忧。不过，ASML这边也没含糊，当场就给反驳了。他们的理由很“硬”——公司强调，用于生产超微细芯片电路的极紫外（EUV）光刻系统，产量本身就极其有限，而且，这些设备在整个生命周期里，都得靠ASML的工程师持续维护才能运转。换句话说，设备的流向高度可控，很难神不知鬼不觉地“流失”。

那么，ASML的底气从哪来？得看看这台设备的分量。报道中描述，ASML最先进的EUV系统，体积堪比一辆校车，重量约180吨。这玩意儿在高端芯片制造产业链里，绝对是核心中的核心，也是当前被视作“卡脖子”的关键装备。一位ASML发言人被彭博社援引时，话也说得很绝对：“ASML从未向中国出售过任何一台EUV光刻机，也从未向中国出口过任何专门为EUV设备设计的部件、模块或设备。”

话说回来，针对这篇报道的具体说法，美国商务部、ASML以及白宫在路透社的常规工作时间之外联系时，都还没有立刻作出回应。值得一提的是，路透社自己，去年12月就曾报道过另一件事：中国的一个科研团队，在多名ASML前工程师的参与下，已经搞出了一套EUV原型机。当时那件事，就被业内形容为中国在高端芯片制造领域的一次“曼哈顿计划”式的攻关。

两件事放在一起看，局势显然没那么简单。