御微半导体国内首款可完整覆盖90~28nm掩模图形缺陷检测设备发运
7月29日，半导体设备领域传来一个有点重磅的消息：御微半导体正式宣布，其全新自研的国内首款掩模图形缺陷检测设备Raptor-600，已经发运至国内头部晶圆厂。这款设备最大的亮点在于——它能够完整覆盖90nm到28nm的全制程节点。先简单科普一下：掩模版，通俗讲就是芯片光刻环节的“母版”，它的品质直接
7月29日，半导体设备领域传来一个有点重磅的消息：御微半导体正式宣布，其全新自研的国内首款掩模图形缺陷检测设备Raptor-600，已经发运至国内头部晶圆厂。这款设备最大的亮点在于——它能够完整覆盖90nm到28nm的全制程节点。
先简单科普一下：掩模版，通俗讲就是芯片光刻环节的“母版”，它的品质直接决定了整片晶圆的生产良率。哪怕只有微小的图形缺陷，都可能让整批晶圆全部报废。所以，掩模缺陷检测设备的精度和可靠性，是制程良率控制的关键一环。
这款Raptor-600最核心的能力，就是能在高密度图形中精准分辨出细小缺陷，同时有效规避辅助图形的干扰——这可不是件容易的事。它还能快速检出图形缺损、表面污染物等各种问题，并且同时适配掩模制造厂和晶圆厂两大场景，满足从生产到应用的全流程品质管控需求。
实际上，这并非御微半导体的首款产品。早在2025年初，覆盖90nm及以上制程的初代机型Raptor-500就已经交付客户。经过一年多现场产线的迭代打磨，Raptor-600完成了全方位技术升级，具体体现在三个层面：
首先，自研的高分辨率透反射双光路紫外成像系统，能够同步捕捉各类影响掩模及光刻良率的缺陷。其次，搭载了纳米级高精度运动平台，保障检测定位达到微米级的稳定精度。最后，配套的超大图像并行计算引擎，大幅提升了缺陷识别速度与适配性——简单说，就是更快、更准、更稳。
从行业角度看，这标志着国产掩模缺陷检测设备正式迈入28nm制程关口，对于国内半导体产业链的自主可控来说，意义不言而喻。
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